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期刊论文
单管卧式热壁型PECVD设备
单管卧式热壁型PECVD设备
来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:sunnus31
【摘 要】
:
介绍了一种用于氮化硅薄膜生长的等离子增强化学气相淀积设备,着重阐述了该设备的结构组成、工艺原理及控制.
【作 者】
:
钟华
郑建宇
【机 构】
:
北京七星华创电子股份有限公司
【出 处】
:
电子工业专用设备
【发表日期】
:
2004年4期
【关键词】
:
氮化硅薄膜
等离子增强化学气相淀积
工艺原理
单管卧式热壁型PECVD设备
射频
PECVD
RF
Uniformity
Productivity
Si3N4
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介绍了一种用于氮化硅薄膜生长的等离子增强化学气相淀积设备,着重阐述了该设备的结构组成、工艺原理及控制.
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