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简要介绍了硅片表面污染物杂质的类型，综述了传统湿法清洗及干法清洗对硅片表面质量的影响，以及近年来清洗技术和理论的研究发展及现状；同时，阐述了污染物检测方法的研究进展；最后，对今后微电子清洗工艺的发展方向进行了展望。
微电子工业中清洗工艺的研究进展
【摘 要】
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简要介绍了硅片表面污染物杂质的类型，综述了传统湿法清洗及干法清洗对硅片表面质量的影响，以及近年来清洗技术和理论的研究发展及现状；同时，阐述了污染物检测方法的研究进展；最后
【机 构】
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河北工业大学化工学院应用化学系
【出 处】
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微电子学
【发表日期】
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2006年2期
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