氟化物溶液腐蚀后硅表面形态的STM与XPS研究

来源 :厦门大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：eclava

【摘要】

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利用扫描隧道显微技术(STM)和X-射线光电子能谱(XPS)技术,研究了Si (111)在几种不同比例的NH4F-HCl溶液中被腐蚀后的表面形态及洁净度.通过分析表面的STM图像与XPS谱图,表明

【作者】

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李静吴孙桃叶建辉 LI S F Y

【机构】

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厦门大学萨本栋微机电研究中心,厦门大学萨本栋微机电研究中心,新加坡国立大学材料与工程研究所,新加坡国立大学化学系

【出处】

：

厦门大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2003年5期

【关键词】

：

硅半导体工艺湿法腐蚀氟化物溶液表面形态洁净度 STM XPS 表面粗糙度化学稳定性 Si (111)surface etching STM X

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利用扫描隧道显微技术(STM)和X-射线光电子能谱(XPS)技术,研究了Si (111)在几种不同比例的NH4F-HCl溶液中被腐蚀后的表面形态及洁净度.通过分析表面的STM图像与XPS谱图,表明在较高pH值的NH4F-HCl溶液中被腐蚀的Si (111)表面粗糙度较小,且表面洁净度及化学稳定性较好.

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