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利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了在溅射参数完全相同的条件,纳米NiOx薄膜结构连续可控、可调节.
磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜
【摘 要】
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利用自行设计的基片液氮低温冷却装置,用金属Ni靶在Ar+O2气氛反应条件下,利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法,薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像(SEM)表明,该方法实现了
【机 构】
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北京航空航天大学,北京印刷学院,北京有色金属研究总院
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2004年期
【基金项目】
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国家重点基础研究发展计划(973计划);
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