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2006年《半导体国际》具有品牌效应的“成品率提升研讨会”。“晶圆清洗技术研讨会”和“光刻技术研讨会”已于5月，8月和10月成功举办。在此基础上。《半导体国际》邀请来自半导体晶圆制造厂和设备材料供应商的资深专家。分别成立了三个专家委员会。这些在半导体行业有10年以上经验。并在各自领域拥有独到见解的专家们将通过《半导体国际》杂志、网站．研讨会等平台，畅谈半导体技术、产业．市场的发展方向。并定期与业界工程师进行对话交流。《半导体国际》每年将更新或扩充专家委员会成员。以期提供更广泛的经验之谈。更好地服务于高速成