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GaAs MISFET制备中的选择性腐蚀研究

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：fantasyq1

【摘 要】

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研究了体积比为1:1到10:1的50%柠檬酸/双氧水溶液对GaAs/A1 Ga1-xAs结构腐蚀的选择特性,用α台阶仪、原子力显微镜(AFM)等方法研究了腐蚀样品表面的微观形貌.利用这种选择腐

【作 者】

：

陈宏江 杨瑞霞 武一宾 杨克武 

【机 构】

：

河北工业大学信息学院,中国电子科技集团公司第13所

【出 处】

：

半导体技术

【发表日期】

：

2005年10期

【关键词】

：

选择湿法腐蚀 柠檬酸 调制掺杂沟道 金属-绝缘体-半导体场效应晶体管 selective wet etching  citric acid  modulatio 

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研究了体积比为1:1到10:1的50%柠檬酸/双氧水溶液对GaAs/A1 Ga1-xAs结构腐蚀的选择特性,用α台阶仪、原子力显微镜(AFM)等方法研究了腐蚀样品表面的微观形貌.利用这种选择腐蚀技术制备了undoped-GaAs/n-GaAs调制掺杂沟道金属-绝缘体-半导体场效应晶体管,获得了很好的器件特性参数,证明了这种腐蚀溶液适合于器件制备中的栅挖槽工艺.

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