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讨论了一种新型pH修饰电极的制备及其应用.将钨(W)电极放置于2.0mol/L H2SO4中,在1.0~2.0V的电位区间内进行电化学氧化,通过该方法在W电极表面生成三氧化钨(WO3)膜.为了排除样品中的污染,在W/WO3电极表面涂敷了一层Nafion(全氟化离子交换剂)膜.该W/WO3/Nafion修饰电极在pH值2.0~12.0的范围内有良好的线性关系,能斯特(Nernstian)斜率为(-53.5±0.5)mV/pH;该电极对pH值6.0~7.0范围内的缓冲溶液响应时间为3 s左右;同时,