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薄膜在热处理过程中存微晶结构的变化。利用光学显微镜对非晶态Ｓｅ薄膜在晶化过程中微裂纹的产生做了详细的分析和研究，利用位形坐标解释了非晶薄膜室温下的转为的原因。并对三层结构的ＳｉＯ／Ｓｅ／ＳｉＯ的晶化做了进一步研究，结果表明微裂纹产生与晶化过程中砂揶重新排序，原子迁移导致晶界的产生和体积收缩产生的应力有关，裂纹的产生还同薄膜与衬底间的热失配有关。