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首先用CVD法制备金刚石厚膜，接着在其表面利用氢等离子体辅助刻蚀，然后在铁薄膜的催石墨化作用下，对金刚石膜的表面进行了选择性的刻蚀。结果表明，在氢等离子体的辅助作用下，铁薄膜可以持续对CVD金刚石膜进行刻蚀；如果控制铁薄膜的形状和厚度，可以实现对CVD金刚石膜表面较精确的图形化刻蚀。该技术有望成为一种新的刻蚀金刚石膜的方法。