【摘 要】
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本文重点研究引起圆柱形阳极层霍尔推力器的内磁极刻蚀的入射离子能量和入射角分布,仿真中考虑入射离子能量和入射角分布大小的变化,进而得到相应的刻蚀速率。由仿真结果可知
【机 构】
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核工业西南物理研究院; 成都理工大学工程技术学院;
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(No.11775073);四川省科技厅项目(No.2017JY0041)
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本文重点研究引起圆柱形阳极层霍尔推力器的内磁极刻蚀的入射离子能量和入射角分布,仿真中考虑入射离子能量和入射角分布大小的变化,进而得到相应的刻蚀速率。由仿真结果可知,放电电压400 V,阳极表面磁场强度175×10-4T,中心最大刻蚀速率为3×10-9m/s。磁场提高到205×104T时,中心附近刻蚀速率增加到原来的1.3倍左右,边沿处的刻蚀速率基本相同。在175×10-4T的磁场强度时,把放电电压从400提高到600 V时,中心附近的刻蚀速率从3×10-9提高到12.1×10-9m/s,刻蚀速率增加了4倍多。此仿真结果与150 h的实验结果一致。此研究方法和结果有助于圆柱形阳极层霍尔推力器的设计和寿命评估工作。
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