【摘 要】
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研究了氮含量对(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜微观结构和力学性能的影响,利用射频磁控溅射工艺在不同N2和Ar流量比下制备了(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜.结果表明,随着氮气流量的
【机 构】
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上海理工大学材料科学与工程学院 杨浦200093
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研究了氮含量对(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜微观结构和力学性能的影响,利用射频磁控溅射工艺在不同N2和Ar流量比下制备了(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜.结果表明,随着氮气流量的升高,(AlCrTiZrNb)N薄膜的沉积速率逐渐下降,AlCrTiZrNb合金薄膜的结构由非晶态转变为由Me-N(金属氮化物)构成的面心立方固溶体结构,(AlCrTiZrNb)N薄膜的择优生长取向为(200)晶面.同时随着N2流量的增加,(AlCrTiZrNb)N高熵合金薄膜的硬度首先快速升高,随后略微降低.当N2∶Ar=1∶1时,(AlCrTiZrNb)N薄膜硬度最大值28.324 GPa,此时(AlCrTiZrNb)N薄膜呈现单一的面心立方固溶体结构,饱和Me-N相的形成与各元素的固溶强化作用是其硬度的增长的主要原因.
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