【摘 要】
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基于溅射理论和分子热力学理论建立了SmCo基多元合金薄膜的成分调控模型,讨论了溅射参数对薄膜成分的影响规律。随后以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅
【机 构】
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成都信息工程学院,电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,
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基于溅射理论和分子热力学理论建立了SmCo基多元合金薄膜的成分调控模型,讨论了溅射参数对薄膜成分的影响规律。随后以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上制备了SmCo基多元合金薄膜,测试了不同溅射工艺制备薄膜的成分。结果表明:通过模型计算得到的薄膜成分对溅射参数的依赖关系与实验结果吻合,验证了模型的有效性。
Based on the theory of sputtering and molecular thermodynamics, the composition regulation model of SmCo-based multi-element alloy thin film was established. The influence of sputtering parameters on the film composition was discussed. Then Sm (Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03) 7.5 alloy was used as target material to fabricate a SmCo-based multi-element alloy thin film on a single crystal Si substrate by magnetron sputtering. The composition of the thin films prepared by different sputtering processes . The results show that the dependency of the film composition on the sputtering parameters is in good agreement with the experimental results and the validity of the model is verified.
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