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无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征
来源 :半导体杂志 | 被引量 : 0次 | 上传用户:dengggaowanyuan
【摘 要】
:
无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征Э.С.法勒克维奇И.Ф.切沃勒(乌克兰国立扎波罗热大学)无位错硅单晶晶体结构的完美程度,即它们体内的宏观和微观缺陷的存在,乃是
【作 者】
:
法.
ЭС
切.
ИХ
【机 构】
:
乌克兰国立扎波罗热大学
【出 处】
:
半导体杂志
【发表日期】
:
1997年3期
【关键词】
:
硅单晶
无位钳
无坩埚区熔法
微缺陷
Vertical conductionDouble scatterField effect transister
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无坩埚区熔法生长的无位错硅单晶中微缺陷形成的特征Э.С.法勒克维奇И.Ф.切沃勒(乌克兰国立扎波罗热大学)无位错硅单晶晶体结构的完美程度,即它们体内的宏观和微观缺陷的存在,乃是目前评定硅单晶质量的主要参数之一。结构缺陷的特征、浓度及分布限定了硅单晶的...
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