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根据对Si-N-O系统相图的分析,首次在Si3N4陶瓷材料表面形成Si2N2O抗氧化层。其方法是利用Sol-Gel在Si3N4陶瓷的表面涂上一层SiO2(其中含有10%的Ai2O3)涂层后,在N2气氛中,并有Si3N4粉末和SiO2粉末存在的条件下,于1273~1673K的温度下进行热处理。用XRD和XPS分析验证了Si2N2O(和/或O’-Sialon)层的存在。由于形成了Si2N2O(和/或O’-Sialon)层,Si3N4陶瓷材料在1573K的温度下氧化100h后,氧化增量从原来的0.42mg/cm