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气相沉积TiAlN薄膜及其性能分析
气相沉积TiAlN薄膜及其性能分析
来源 :热处理技术与装备 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gf930
【摘 要】
:
利用非平衡磁控溅射离子镀设备,在轴承钢和硬质合金表面沉积TiAlN薄膜,并对薄膜结构和主要性能进行了分析。所镀薄膜厚度可超过3μm,薄膜的生长比较好,形成了细化的柱状晶粒
【作 者】
:
刘志远
潘全喜
【机 构】
:
郑州职业技术学院电气电子工程系
【出 处】
:
热处理技术与装备
【发表日期】
:
2013年3期
【关键词】
:
磁控溅射
TIALN
结合力
magnetron sputtering
TiAlN
bonding force
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利用非平衡磁控溅射离子镀设备,在轴承钢和硬质合金表面沉积TiAlN薄膜,并对薄膜结构和主要性能进行了分析。所镀薄膜厚度可超过3μm,薄膜的生长比较好,形成了细化的柱状晶粒。经断口扫描分析发现薄膜与基体的结合比较牢固,结合力可达41 N。
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