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利用非平衡磁控溅射离子镀设备,在轴承钢和硬质合金表面沉积TiAlN薄膜,并对薄膜结构和主要性能进行了分析。所镀薄膜厚度可超过3μm,薄膜的生长比较好,形成了细化的柱状晶粒。经断口扫描分析发现薄膜与基体的结合比较牢固,结合力可达41 N。
气相沉积TiAlN薄膜及其性能分析
【摘 要】
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利用非平衡磁控溅射离子镀设备,在轴承钢和硬质合金表面沉积TiAlN薄膜,并对薄膜结构和主要性能进行了分析。所镀薄膜厚度可超过3μm,薄膜的生长比较好,形成了细化的柱状晶粒
【机 构】
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郑州职业技术学院电气电子工程系
【出 处】
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热处理技术与装备
【发表日期】
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2013年3期
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