【摘 要】
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采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢及Sip（111）基体上制备了含氢无定形碳（a-C∶H）薄膜,沉积的薄膜表面光滑,硬度高,内应力小,膜/基结合力好。利用球-盘摩擦实验机对薄膜在不同真空度
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所,中国科学院研究生院
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采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢及Sip（111）基体上制备了含氢无定形碳（a-C∶H）薄膜,沉积的薄膜表面光滑,硬度高,内应力小,膜/基结合力好。利用球-盘摩擦实验机对薄膜在不同真空度（1.0×105、5.0×10-2、1.0×10-2、5.0×10-3 Pa）下的摩擦学行为进行了研究,结果表明,随着真空度的升高,薄膜的摩擦系数逐渐减小,磨损率逐渐增大。在5.0×10-3 Pa时,a-C∶H膜的摩擦学行为发生突变,此时薄膜的摩擦系数为0.005,而耐磨寿命
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