紫铜表面3-巯丙基三乙氧基硅烷薄膜的制备与耐蚀性能

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利用傅里叶变换红外(FTIR)光谱分析了3-巯丙基三乙氧基硅烷分别在酸性和碱性的醇-水溶液中水解后以及在紫铜表面成膜后的结构特征.利用极化曲线、电化学阻抗谱(EIS)和盐水浸泡实验测试了硅烷膜的耐腐蚀性能.结果表明:3-巯丙基三乙氧基硅烷在酸性溶液中能够发生一定程度的水解并生成Si―OH结构,且当该溶液在自然状态下晾干后,其水解程度进一步增大.在碱性溶液中该硅烷只发生少量的水解,溶液中含有较多SiOCH2CH3结构,且在溶液自然晾干后水解程度也没有明显增大.由酸性硅烷溶液制得的薄膜中硅烷分子以Si―O―Si键相互交联的程度比由碱性硅烷溶液制得的薄膜高.硅烷膜降低了紫铜电极的腐蚀电流密度,其保护效率分别为90.3%(酸性)和79.2%(碱性).在3.5%(w)NaCl溶液中浸泡24h后,由酸性溶液制得的薄膜表现出更高的阻抗值,而由碱性溶液制得的薄膜则基本失去了对基底的保护能力.
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