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以硫酸铪和盐酸为原料，采用液相自组装技术，以十八烷基三氯硅烷（OTS）为模板制备了二氧化铪晶态薄膜。通过表面接触角测试仪观察有机层表面接触角变化，探讨了前驱液pH值，薄膜沉积温度和煅烧温度对HfO2薄膜的影响。通过XRD、SEM等测试手段对HfO2薄膜的物相组成、显微结构和表面形貌进行了表征，结果表明：利用自组装技术在500℃热处理后成功制备出了立方相HfO2晶态薄膜，当沉积温度为70～80℃，HCl浓度为0-3mol／L时，HfO2薄膜表面均匀致密，生长良好。