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为解决传统的TiCl_4-H_2-H_2体系进行PCVD TiN过程中对炉体和真空系统的腐蚀、氯元素进入涂层等问题,作者采用金属有机物TPT或TET代替TiCl_4作为供钛源进行PAMOCVD涂层处理。研究了不同工艺参数对涂层性能的影响。通过对涂层钻头、冲头寿命的对比试验表明:PAMOCVD涂层钻头比未涂层的提高近6倍;比PCVDTiN涂层钻头提高2—3倍;标准件冲头PAMOCVD涂层比不涂层提高寿命1—2倍,并解决了对设备的腐蚀问题。