【摘 要】
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玻璃内钝化工艺是我厂通过自主工艺攻关开发的一套芯片制造工艺,这套芯片制造工艺包括扩散、喷砂、光刻、腐蚀、玻璃烧结、表面金属化、划片,其中光刻是这套芯片制造工艺中使
【机 构】
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中国振华集团永光电子有限公司 贵州 贵阳 550000
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玻璃内钝化工艺是我厂通过自主工艺攻关开发的一套芯片制造工艺,这套芯片制造工艺包括扩散、喷砂、光刻、腐蚀、玻璃烧结、表面金属化、划片,其中光刻是这套芯片制造工艺中使用最为频繁的步骤,也是整个工艺中重要的步骤之一.光刻对工艺过程的刻槽、刻金属化孔、刻金属的工艺质量起到非常关键的作用.由于工艺条件的限制,诸多工艺参数得不到精准的控制,工艺实施以来,存在一些不稳定现象.本文主要介绍了我们通过结合实际,解决了部分光刻中存在的问题.
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