【摘 要】
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二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率,因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜。溅射过程中,首先制备纯二氧化铈靶材
【机 构】
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武汉理工大学信息学院通信与信息系统,武汉理工大学材料与工程学院材料学
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二氧化铈具有高折射率、介电常数和紫外吸收率,因此它广泛地应用于各种光学和电子器件。本文采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积CeO2薄膜。溅射过程中,首先制备纯二氧化铈靶材,然后在不同的功率上调节不同的基片温度进行溅射。采用光电子能谱、X射线衍射、拉曼光谱和扫描电镜等测试方法表征薄膜的特性。
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