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介绍了无掩模光刻技术的现状、存在的问题和前景展望;说明了无掩模光刻技术的最大优点即是降低掩模成本;同时还介绍了电子束光刻技术及其改进.
无掩模光刻技术的前景
【摘 要】
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介绍了无掩模光刻技术的现状、存在的问题和前景展望;说明了无掩模光刻技术的最大优点即是降低掩模成本;同时还介绍了电子束光刻技术及其改进.
【机 构】
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无锡市罗特电子有限公司,无锡机电高等职业技术学校
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2005年8期
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