【摘 要】
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用经十六烷基三甲基溴化铵有机化改性的蒙脱土(OMMT)与高抗冲聚苯乙烯(HIPS)通过熔融插层法制备了HIPS/OMMT复合材料,用X-ray衍射技术对材料结构进行了表征,发现钠基蒙脱土(N
【机 构】
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青岛科技大学高分子科学与工程学院,中国科技大学火灾科学国家重点实验室
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用经十六烷基三甲基溴化铵有机化改性的蒙脱土(OMMT)与高抗冲聚苯乙烯(HIPS)通过熔融插层法制备了HIPS/OMMT复合材料,用X-ray衍射技术对材料结构进行了表征,发现钠基蒙脱土(Na+-MMT)和有机蒙脱土的层间距分别为1.51 nm和2.18 nm,HIPS/OMMT(5phr)复合材料中蒙脱土的层间距因聚合物大分子的插入扩大为3.44nm;而HIPS与Na+-MMT形成的复合材料的层间距与Na+-MMT的层间距相比却没有变化,表明未有机化处理土没有形成插层结构.锥形量热仪的研究结果表明HIP
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