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本文首先介绍了气密性光纤的发展过程，接着重点分析了碳涂覆光纤的两个重要参数：长期可靠性和抗氢渗透性。引入了新的衡量碳涂覆光纤抗氢渗参量－缺氢渗因子，最后介绍了西安应用光学研究所碳涂覆光纤“八．五”末的进展情况，以及国内外现状比较。
碳涂覆光纤的最新进展
【摘 要】
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本文首先介绍了气密性光纤的发展过程，接着重点分析了碳涂覆光纤的两个重要参数：长期可靠性和抗氢渗透性。引入了新的衡量碳涂覆光纤抗氢渗参量－缺氢渗因子，最后介绍了西安应用光
【机 构】
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西安应用光学研究所三室
【出 处】
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应用光学
【发表日期】
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1996年3期
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