【摘 要】
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文章采用钨（W）作为NiFe合金的缓冲层和覆盖层制备W/NiFe/W系列膜，同时制备了Ta/NiFe/Ta系列膜作对照，研究W/NiFe/W中W对NiFe薄膜AMR的影响，并对样品的磁性和微结构进行了测试和表
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文章采用钨（W）作为NiFe合金的缓冲层和覆盖层制备W/NiFe/W系列膜，同时制备了Ta/NiFe/Ta系列膜作对照，研究W/NiFe/W中W对NiFe薄膜AMR的影响，并对样品的磁性和微结构进行了测试和表征。通过观察可以看出，利用电阻率大、表面能大的钨作为缓冲层以及覆盖层可以很好地保证NiFe薄膜优异的软磁性能，其AMR值与利用钽元素时的结果相近。经过退火处理后，W/NiFe/W薄膜的磁性死层更小，磁性能更稳定。结果表明，W也适合作NiFe薄膜的缓冲层以及覆盖层。
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