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高的表面粗糙度和厚度的不均匀性影响了CVD金刚石膜的应用.而抛光可以减少这些缺点近年来.发展了许多CVD金刚石膜的抛光技术.而且不同的抛光技术都有其优缺点.表文总结了CVD金刚石膜的各种抛光技术及其特点.并提出了一种新的抛光技术.
CVD金刚石膜的抛光技术
【摘 要】
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高的表面粗糙度和厚度的不均匀性影响了CVD金刚石膜的应用.而抛光可以减少这些缺点近年来.发展了许多CVD金刚石膜的抛光技术.而且不同的抛光技术都有其优缺点.表文总结了CVD
【机 构】
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北京科技大学
【出 处】
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表面技术
【发表日期】
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2004年期
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