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采用真空蒸镀的方法制备磷掺杂多晶硅薄膜，研究了磷含量对多晶硅薄膜的表面形貌、组织结构、晶粒尺寸及晶化率的影响。结果表明：随着磷掺杂分数的增加，多晶硅薄膜的晶粒尺寸和晶化率表现出先增加后降低的趋势，当磷掺杂分数为1％时，薄膜晶粒尺寸达到最大值，为0．55μm，晶化率为96．82％，且晶粒的均匀性最佳。