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研究Cu基底上电化学沉积Ni过程中的影响因素，包括镀液中活化剂、光亮剂、沉积电压、沉积时间和外加磁场干预下的纳米Ni催化剂的制备效果，通过场扫描系统及X-射线仪进行表征，为纳米Ni催化剂的制备提供一定的理论基础.
Cu基电化学沉积纳米Ni的影响因素研究
【摘 要】
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研究Cu基底上电化学沉积Ni过程中的影响因素，包括镀液中活化剂、光亮剂、沉积电压、沉积时间和外加磁场干预下的纳米Ni催化剂的制备效果，通过场扫描系统及X-射线仪进行表征，为纳
【机 构】
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佳木斯大学理学院,佳木斯大学材料科学与工程学院
【出 处】
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湘潭大学学报：自然科学版
【发表日期】
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2018年4期
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（5167069）
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