紫(外)激光作用下Si(CH3)4的MPI与Si原子的共振电离

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在紫 (外 )激光作用下 ,利用平行板电极装置及飞行时间 (TOF)质谱仪 ,研究了Si(CH3 ) 4分子的多光子电离 (MPI)、多光子解离 (MPD)及由Si(CH3 ) 4解离产生的Si原子的共振电离。得到了 40 4~ 378nm内Si(CH3 ) 4的MPI光谱及某些波长点处的TOF质谱。根据实验结果 ,讨论了Si(CH3 ) 4的MPI机理 ,得到了一些有意义的结论。 The multi-photon ionization (MPI), multi-photon dissociation (MPD) of Si (CH3) 4 and the photolysis of Si (CH3) CH3) 4 dissociation of Si atoms generated by the resonant ionization. The MPI spectra of Si (CH3) 4 at 40 4 ~ 378 nm and the TOF mass spectra at some wavelength points were obtained. According to the experimental results, the MPI mechanism of Si (CH3) 4 is discussed and some meaningful conclusions are obtained.
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