总剂量辐照前后CMOS器件阈电压变化的统计分析

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本文采用统计分析的方法对大样本互补型金属-氧化物-半导体器件(CMOS)CC4069电路辐照前后的数据进行了处理。比较了研究变量的晶体管阈电压值在辐照前和累积一定辐照剂量后的标准差及统计分布,研究了样品阈电压漂移值的分布规律,由此对应用于航天系统的电子元器件进行有关辐射可靠性筛选的必要性进行了探讨。
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