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论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究，给出了光刻曝光实验部分结果，并与我刻方法作了比较。
衰减相移掩模光刻技术研究
【摘 要】
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论述了衰减相移掩模光刻技术的原理和曝光实验研究，给出了光刻曝光实验部分结果，并与我刻方法作了比较。
【机 构】
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中国科学院光电技术研究所微加工
【出 处】
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光电工程
【发表日期】
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1999年5期
【基金项目】
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国家自然科学基金!（69776028）,,中国科学院重大项目基金
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