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多光谱成像光谱技术正在向光谱通道更多、集成度更高、体积小和重量更轻的方向发展，而用于分光的多通道滤光片是其关键光学元件，需要相应发展新型多光谱窄带集成滤光片制备技术．提出了组合刻蚀法布里-珀罗（F-P）滤光片间隔层的方法，将光学薄膜制备技术，离子束刻蚀技术与掩膜法技术相结合，形成新的多通道集成滤光片的制备方法．并在单个微型基片上，成功制备了集成16通道窄带线阵滤光片，获得的单元滤光片几何线宽为0．7mm，相对半峰全宽优于1．0％，透射峰定位精度优于0．25％．这一方法不但可满足集成度更高的滤光器件的要求，