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工业上用磁控溅射技术为太阳能集热管制备Al-N／Al选择性吸收涂层，这种吸收涂层最外层为AIN介质减反层。在开环N2流量控制模式下，存在溅射制备AlN介质减反层沉积速率低的缺点。本文依据气相化学反应动力学理论，薄膜的沉积率正比于反应气体的浓度，提出了一种提高制备AlN陶瓷减反层沉积速率的方法。该方法将直流溅射靶电压反馈至模糊控制器，控制N2流量大小，让磁控溅射镀膜机稳定工作在拐点电压附近，实现反应溅射恒电压控制。并且采用单片机技术制作了样机，在SCS-700A型太阳能集热管镀膜机中使用，实验结果表明，镀膜