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采用叶绿素荧光分析技术,对不同浓度的双氧水(H2O2)胁迫下鹅掌木(Schefflera)叶片的Chla荧光动力学参数进行了测量和分析。结果表明:H2O2各浓度氧化胁迫下,在处理时间内,参数Fv/Fo,Fv/Fm,△Fv/T呈现先下降后回升,最后趋于下降的趋势;参数Fvi/Fv呈现一直上升的趋势。Chla荧光动力学参数灵敏地反映了叶片光合细胞对H2O2氧化胁迫下的适应、恶化和死亡的过程。