TiAl基合金的离子表面Nb-C复合渗研究

来源 :新技术新工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户：xiange

【摘要】

：

利用双层辉光离子渗金属技术对TiAl基合金进行离子Nb-C复合渗处理,通过研究源极电压与工件电压对渗层显微组织及其厚度的影响,确定合理的工艺参数.试验结果表明,源极电压和阴

【作者】

：

贲海峰郭朝丽刘小萍

【机构】

：

太原理工大学表面工程研究所,北京科技大学材料物理与化学系

【出处】

：

新技术新工艺

【发表日期】

：

2007年6期

【关键词】

：

TIAL基合金 Nb-C复合渗工艺参数 TiAI based alloy plasma niobizing and carburization proce

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利用双层辉光离子渗金属技术对TiAl基合金进行离子Nb-C复合渗处理,通过研究源极电压与工件电压对渗层显微组织及其厚度的影响,确定合理的工艺参数.试验结果表明,源极电压和阴极电压电位差为250 V,TiAl基合金经过Nb-C复合渗后可在表面形成紧密较厚的Nb-C合金层,其表面硬度达HV1 150.

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