谷胱甘肽在铁氰化铜修饰碳糊电极上的电化学行为研究

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制备了新型铁氰化铜Cu3[W(CN)6]2修饰碳糊电极(CuHCF—CPE)。研究了谷胱甘肽(GSH)在CuHCF—CPE上的电化学行为。在最优条件下,采用差分脉冲伏安法(DPV)测得电催化氧化峰电流与GSH浓度在4.0-120μmol/L范围呈良好线性关系,检出限为0.682vmol/L(S/N=3)。该方法简单、快速、灵敏。
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