【摘 要】
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真空蒸发镀膜是一种制造薄膜的有效方式,利用真空环境通过加热蒸发的物理作用实现薄膜的制造。薄膜厚度是衡量镀膜质量的重要指标,在真空蒸发镀膜的过程中很多因素会对膜厚产
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真空蒸发镀膜是一种制造薄膜的有效方式,利用真空环境通过加热蒸发的物理作用实现薄膜的制造。薄膜厚度是衡量镀膜质量的重要指标,在真空蒸发镀膜的过程中很多因素会对膜厚产生影响。通过理论分析和实验研究的方式明确影响真空蒸发镀膜膜厚的因素,并在生产制造中对相关因素进行优化,对薄膜制造及相关行业的发展具有重要的意义。本文进行了真空蒸发镀膜膜厚的理论分析,通过实验分析的方式,研究了镀料密度、基片到蒸发源距离以及镀料的质量对真空蒸发镀膜膜厚的影响及规律性。旨在通过本文的分析,明确真空蒸发镀膜膜厚的相关影响因素,为真空蒸发镀膜的有效使用奠定基础。
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