【摘 要】
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3.器件的制备和测量3.1.象元设计变量为了满足特定光学系统的要求,必须能够制备多种象元尺寸和间距的列阵。到目前为止,我们已制备了两种类型的低温操作的列阵:一种为象元间
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3.器件的制备和测量3.1.象元设计变量为了满足特定光学系统的要求,必须能够制备多种象元尺寸和间距的列阵。到目前为止,我们已制备了两种类型的低温操作的列阵:一种为象元间距3.5mil的512×512列阵,它是为在视频帧速率下
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