Phase evolution of tantalum nitride and tantalum carbide films with PBII parameters

来源 :稀有金属：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yizhutingyu

【摘要】

：

钽氮化物和钽碳化物电影用磁控管氮和碳跟随的钽劈啪作响被制作基于血浆的离子培植(N-PBII 和 C-PBII ) 。这些电影的阶段进化和形态学用看一眼的角度 X 光检查衍射(GXRD )

【作者】

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LI Zhongwen GU Le TANG Guangze

【机构】

：

SchoolofMaterialsScience＆Engineering,SchoolofMechatronicsEngineering,StateKeylabofAdvancedWeldingPro

【出处】

：

稀有金属：英文版

【发表日期】

：

2011年2期

【关键词】

：

氮化钽薄膜 PBII 碳化钽演变等离子体基离子注入 X射线光电子能谱透射电子显微镜 X射线衍射 thin films tantalum nitride t

【基金项目】

：

This work was financially supported by the National Basic Research Program of China （No. 2007CB607602）, the Science Found for Distinguished Yong Scholars of Heilong-jiang Province, China （No. JC200901

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钽氮化物和钽碳化物电影用磁控管氮和碳跟随的钽劈啪作响被制作基于血浆的离子培植(N-PBII 和 C-PBII ) 。这些电影的阶段进化和形态学用看一眼的角度 X 光检查衍射(GXRD ) 和传播电子显微镜学(TEM ) 被学习。在钽氮化物电影的主要阶段是有增加培植电压和阶段的尺寸增加其谷物与增加培植剂量满足增加的水晶的 TaN0.1，这被发现。在钽碳化物电影，主要阶段是 Ta2C。当培植剂量增加了， TaC 阶段也出现了。从有高氮或碳的阶段满足的各种各样的看一眼角度表演的 XRD 结果， Ta4N5 和

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