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用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),探讨了在Si(100)衬底上加偏压电场情况下金刚石膜的成核行为.侧向力显微(LFM)表明偏压电场对金刚石成核有促进作用,并分析了偏压电场促进金刚石成核的机制.
MPCVD法加偏压下金刚石膜的成核行为
【摘 要】
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用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),探讨了在Si(100)衬底上加偏压电场情况下金刚石膜的成核行为.侧向力显微(LFM)表明偏压电场对金刚石成核有促进作用,并分析了偏压电场促
【机 构】
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上海第二工业大学应用物理系,解放军理工大学理学院
【出 处】
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光学仪器
【发表日期】
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2005年4期
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