硅、二氧化硅中微量硫的库仑滴定

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微量硫的存在直接影响硅及二氧化硅制品的性能。我们利用库仑滴定的方法,自己组装仪器,设计制造吸收室,解决了硅及二氧化硅中微量硫的测定。方法简便、快速,灵敏度为0.5 ppm,空白1-5ppm,再现性±7.7%。实验装置库仑定硫装置如图1所示。其简要流程示于图2。 The presence of trace sulfur directly affects the performance of silicon and silica products. We use coulometric titration method, assembled their own instruments, design and manufacture of absorption chamber, to solve the silicon and silicon in the determination of trace sulfur. The method is simple and fast, with a sensitivity of 0.5 ppm, blanks of 1-5 ppm and reproducibility of ± 7.7%. Experimental device Coulometric sulfur device shown in Figure 1. The outline of the process is shown in Figure 2.
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