【摘 要】
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一个研制下一代芯片制造技术的联合组织日前传来捷报,科技人员成功地研制了第一台利用远紫外线(euv)光刻技术的芯片制造设备,这标志着半导体工业在生产10GHz芯片的征途中迈出
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一个研制下一代芯片制造技术的联合组织日前传来捷报,科技人员成功地研制了第一台利用远紫外线(euv)光刻技术的芯片制造设备,这标志着半导体工业在生产10GHz芯片的征途中迈出了可喜的一步.rn目前,芯片制造普遍使用深紫外线光刻技术,Intel使用这种刻画技术可以制造厚度为100纳米的晶体管.但是,如果希望继续减少晶体管厚度,现在的刻画技术将成为不可逾越的障碍.利用远紫外线光刻技术将可以造出厚度仅为30纳米的晶体管.比较这两种刻画技术,Intel的工程师作了一个形象的比喻:如果在纸上画线,深紫外线光刻使用的是钝铅笔,而远紫外线光刻使用的是削尖了的铅笔.
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