【摘 要】
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随着集成电路产业近年来的高速发展,对可用于12寸晶圆的高纯电子级多晶硅的需求不断提升,但是国内少数厂家仅能进入中低端市场,在高端领域始终被国外技术垄断。多晶硅主流的
【基金项目】
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江苏省重点研发计划(产业前瞻与共性关键技术),大规模集成电路用硅料生产工艺研发(项目编号:BE2018060)
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随着集成电路产业近年来的高速发展,对可用于12寸晶圆的高纯电子级多晶硅的需求不断提升,但是国内少数厂家仅能进入中低端市场,在高端领域始终被国外技术垄断。多晶硅主流的生产工艺是改良西门子法,其核心工序为化学气相沉积,配方、流场和温场分布、硅棒温度等因素对产品能物耗和质量影响。二氯二氢硅作为辅助原料,可提高沉积速率,降低生产能耗和物耗。通过对原料中二氯二氢硅进行独立控制,研究发现二氯二氢硅在气相沉积的不同时期,对于效率提升和产品纯度的增益比例有明显差异,在10%~13%的区间内会形成拐点,实验结果显示二氯二氢
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