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外延ZnO压电薄膜的声表面波特性分析

来源 :湖北大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：liujj08

【摘 要】

：

采用RF平面磁控溅射技术在单晶Al2O3衬底上淀积了ZnO薄膜.研究了ZnO薄膜的结构特性及电学性能,XRD结果表明:在Al2O3衬底上沉积的ZnO薄膜是高度c轴取向的.电阻率测试结果表明:

【作 者】

：

张柏顺 刘江华 江娟 梁坤 章天金 

【机 构】

：

湖北大学

【出 处】

：

湖北大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2003年2期

【关键词】

：

ZNO压电薄膜 氧化锌薄膜 声表面波 薄膜结构 电学性能 磁控溅射 magnetic-control sputtering system ZnO films S 

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采用RF平面磁控溅射技术在单晶Al2O3衬底上淀积了ZnO薄膜.研究了ZnO薄膜的结构特性及电学性能,XRD结果表明:在Al2O3衬底上沉积的ZnO薄膜是高度c轴取向的.电阻率测试结果表明:在纯氧中高温退火,薄膜的电阻率提高到107Ω*cm量级.对于ZnO/Al2O3结构的SAW器件,随着ZnO薄膜厚度的减小,其机电耦合系数降低,但声表面波速率增加.

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