【摘 要】
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用反应离子刻蚀（RIE）剥层的微分霍耳法（DHE）对等离子体掺杂、离子注入制备的Si超浅p＋n结进行了电学表征.通过对超浅p＋n结样品RIE剥层的DHE测试和二次离子质谱（SIMS）测试及比较,发现用
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用反应离子刻蚀（RIE）剥层的微分霍耳法（DHE）对等离子体掺杂、离子注入制备的Si超浅p＋n结进行了电学表征.通过对超浅p＋n结样品RIE剥层的DHE测试和二次离子质谱（SIMS）测试及比较,发现用反应离子刻蚀（RIE）剥层的DHE测试获得的杂质浓度分布及结深与SIMS测试结果具有良好的一致性,DHE具有良好的可控性与重复性.测试杂质浓度达1021cm-3量级的Si超浅结样品,其深度分辨率可达nm量级.
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