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本文介绍了聚四氟乙基材微带电路金属化孔优良连接技术，该技术采用低温等离子体轰击聚四氟乙烯基材孔壁，改变孔壁表面活性的原理，得到优良的金属化孔。并提供该方法的工艺流程，同时阐述该技术具有广泛推广价值。
聚四氟乙烯基材微带电路金属化连接技术
【摘 要】
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本文介绍了聚四氟乙基材微带电路金属化孔优良连接技术，该技术采用低温等离子体轰击聚四氟乙烯基材孔壁，改变孔壁表面活性的原理，得到优良的金属化孔。并提供该方法的工艺流程，同
【机 构】
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电子部第十四研究所
【出 处】
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电子器件
【发表日期】
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1997年1期
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