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介绍了等离子体淀积氮化硅薄膜的最新研究进展,包括薄膜的生长工艺、淀积机理、应用及膜中氢的分析。
等离子体淀积氮化硅的研究进展
【摘 要】
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介绍了等离子体淀积氮化硅薄膜的最新研究进展,包括薄膜的生长工艺、淀积机理、应用及膜中氢的分析。
【机 构】
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华东师范大学电子系上海200062
【出 处】
：
微电子学与计算机
【发表日期】
：
1992年8期
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