在不同热氧化条件下SiO2—Si结构的电子辐射效应研究

来源 :四川大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户:fjlysy
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利用2MV电子静电加速器,研究了热氧化工艺与SiO2-Si结构的电子辐射效应和辐射损伤机制。结果表明,高能电子辐照SiO2-Si结构引起的MOS电容平带电压漂移ΔVfb与SiO2膜厚dox^2成正比。由P型硅为衬底或掺氯氧化的SiO2-Si结构对电子辐射较敏感;而由磷处理或干N2热退火的SiO2-Si结构能有效地降低对电子辐射的敏感性。
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