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金属/非晶硅势垒低频电容中等价的隙态密度分布
金属/非晶硅势垒低频电容中等价的隙态密度分布
来源 :湖南大学学报:自然科学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户:seny668
【摘 要】
:
本文证明:在一定条件下,描述非晶硅隙态密度分布的三种基本函数,即均匀分布、指数分布和双曲分布,在计算金属/非晶硅势垒低频电容时也是等价的.并通过测量室温时低频势垒电容
【作 者】
:
唐元洪
【机 构】
:
湖南大学应用物理系
【出 处】
:
湖南大学学报:自然科学版
【发表日期】
:
1990年4期
【关键词】
:
非晶硅
半导体
电容
测量
隙态密度
amorphous semiconduductor
distribution function
capacitance
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本文证明:在一定条件下,描述非晶硅隙态密度分布的三种基本函数,即均匀分布、指数分布和双曲分布,在计算金属/非晶硅势垒低频电容时也是等价的.并通过测量室温时低频势垒电容,得到了隙态密度分布函数模型等价的标准.
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