【摘 要】
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玻璃基片上的SiO2膜已在液晶显示器件制造业中得到了广泛应用。SiO2膜的性能在很大程度上决定了液晶显示器件的化学稳定性及使用寿命。SiO2膜致密性及膜厚可由P-蚀刻法测量出。本文提出了一
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玻璃基片上的SiO2膜已在液晶显示器件制造业中得到了广泛应用。SiO2膜的性能在很大程度上决定了液晶显示器件的化学稳定性及使用寿命。SiO2膜致密性及膜厚可由P-蚀刻法测量出。本文提出了一种评估液晶显示器件中使用的SiO2膜层性能的简便而又快捷的方法。
The SiO2 film on the glass substrate has been widely used in the manufacturing of liquid crystal display devices. The performance of SiO2 film to a large extent determines the chemical stability and service life of liquid crystal display devices. SiO2 film density and film thickness can be measured by P-etching. This paper presents a simple and quick method to evaluate the properties of SiO2 films used in liquid crystal display devices.
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